MOSFET AEC-Q101有哪些测试项目?

发布时间:2021-12-20 08:44:56
MOSFET AEC-Q101有哪些测试项目?MOSFET AEC-Q101认证对应的测试项目,测试标准,测试条件,样品测试数量,参考案例如下表,具体以实际样品规格书评估后确定:
序号
测试项目
缩写
样品数/批
批数
测试方法
附加条件
A2
Highly Accelerated
Stress Test
HAST
77
3
JESD22 A-110 1、96H,Ta=130℃,RH=85%;
2、VDS=960V,G-S短接
3、试验前后电测
A2   alt
High Humidity
High Temp.
Reverse Bias
H3TRB
77
3
JESD22 A-101 1、试验周期:1000H;
2、Ta=85℃/85%RH;
3、VDS=80%器件最大直流反向偏压,G-S短接;
4、试验前后电测
A3
Unbiased Highly
Accelerated Stress
Test
UHAST
77
3
JESD22 A-118 1、试验周期:96H;
2、Ta=130℃/85%RH;  
3、UHAST前后进行TEST。
A3   alt
Autoclave
AC
77
3
JESD22 A-102 1、试验周期=96H;
2、Ta=121℃/100%RH,15psig;
3、AC前后进行TEST。
A4
Temperature
Cycling
TC
77
3
JESD22 A-104 Appendix 6 1、试验周期:1000循环;
2、-55℃~150℃,转换时间11min,保持时间20min;
3、TC前后TEST
A4a  alt
TC Delamination
Test
TCDT
77
3
JESD22      A-104 Appendix 6  J-STD-035 1、对TC结束后的器件进行C-Sam试验;
2、从5个分层最严重的器件中,按appendix 6进行开封,并作键合线拉力试验;
3、若C-Sam显示无分层,则不需开封和键合线拉力试验
A5
Intermittent
Operational Life
IOL
77
3
MIL-STD-750  Method 1037 1、试验时长:1000h,间歇开通/关断时间:3min/3min;
2、Ta=25℃;
3、器件通电以确保ΔTJ≥100°C(不要超过绝对最大额定值);
4、IOL前后进行TEST
B1
High Temperature
Reverse Bias
HTRB
77
3
MIL-STD-750-1 M1038 Method A1、试验周期:1000H;
2、VDS=1200V,G-S短接;
3、Ta=175℃,需要根据漏电流大小调整;
4、HTRB前后进行TEST
B2
High Temperature
Gate Bias
HTGB
77
3
JESD22 A-108 1、试验周期:1000H;
2、Tj达到额定最大;
3、VGS=+25V,D-S短接
4、若将结温上升25℃,则试验周期降至500H;
5、HTGB前后TEST
B2
High Temperature
Gate Bias
HTGB
77
3
JESD22 A-108 1、试验周期:1000H;
2、Tj达到额定最大;
3、VGS=-10V,D-S短接
4、若将结温上升25℃,则试验周期降至500H;
5、HTGB前后TEST
C1
Destructive
Physical Analysis
DPA
2
1
AEC-Q101-004      Section 4 从通过H3TRB或HAST 、TC试验的样品中随机各抽取2只
C2
Physical
Dimension
PD
30
1
JESD22 B-100 验证物理尺寸和公差
C3
Wire Bond
Strength
WBS
10
1
MIL-STD-750  Method 2037进行前后过程变化对比以评估过程变化的稳健性
C4
Bond Shear
BS
10
1
AEC-Q101-003有关验收标准和如何执行测试的详细信息,请参阅附带的程序。
C5
Die Shear
DS
5
1
MIL-STD-750  Method 2017进行前后过程变化对比以评估过程变化的稳健性
C6
Terminal Strength
TS
30
1
MIL-STD-750  Method 2036 仅评估引脚器件
C8
Resistance to
Solder Heat
RSH
30
1
JESD22 A-111 (SMD)
B-106 (PTH)
RSH试验前后都要都要进行TEST,SMD部件应在测试期间完全浸没,并按MSL等级进行预处理。
C9
Thermal
Resistance
TR
10
1
JESD24-3,24-4,26-6视情况而定G-D短接方式测量热阻
C10
Solderability
SD
10
1
J-STD-002    JESD22B102放大50X,参考表2B中的测试方法A,对于通孔应用测试方法A,或对SMD应用测试方法B和D.
C11
Whisker Growth
Evaluation
    
WG
3
3
AEC-Q005 晶须生长,采用温冲的条件:-40~+85℃的温循,1小时3循环,1500循环,试验后采用SEM进行锡须观察
D1
Dielectric Integrity
DI
5
1
AEC-Q101-004      Section 3 进行前后过程变化对比以评估过程变化的稳健性(只针对功率MOS和内部钳位IGBT)
E0
External Visual
EV
每项试验前后均进行测试
JESD22-B101
产品外观检查(结构、标识、工艺)
E1
Pre- and Post-Stress Electrical and Photometric Test
TEST
所有应力试验前后均进行测试
用户规范或供应商的标准规范
应力试验前后在室温下测量以下静态参数:BVDSS、IDSS、IGSS、RDS(ON)、VGS(th)
E2
Parametric Verification
PV
25
3
用户规范依据产品规格书测试器件参数,以确保符合规范
E3
ESD Characterization
ESDH
30
1
AEC-Q101-001 应力试验前后都要都要进行TEST
E4
ESD Characterization
ESDC
30
1
AEC-Q101-005 应力试验前后都要都要进行TEST
E5
Unclamped Inductive Switching
UIS
5
1
AEC-Q101-004      Section 2 进行前后过程变化对比以评估过程变化的稳健性(只针对功率MOS和内部钳位IGBT)
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